Скло Ito для захисту від випромінювання та сенсорних екранів
Фото продуктів
Скло з провідним покриттям ITO виготовляється шляхом нанесення шару діоксиду кремнію (SiO2) та оксиду індію олова (широко відомого як ITO) за технологією магнетронного розпилення на скляну підкладку в повністю вакуумованому стані, що робить поверхню з покриттям електропровідною. ITO є металевою сполукою з хорошою прозорістю та провідні властивості.
Технічні дані
Товщина скла ITO | 0,4 мм, 0,5 мм, 0,55 мм, 0,7 мм, 1 мм, 1,1 мм, 2 мм, 3 мм, 4 мм | ||||||||
опір | 3-5 Ом | 7-10 Ом | 12-18 Ом | 20-30 Ом | 30-50 Ом | 50-80 Ом | 60-120 Ом | 100-200 Ом | 200-500 Ом |
товщина покриття | 2000-2200Å | 1600-1700Å | 1200-1300Å | 650-750Å | 350-450Å | 200-300Å | 150-250Å | 100-150Å | 30-100Å |
Стійкість скла | |||
Тип опору | низький опір | нормальний опір | висока стійкість |
Визначення | <60 Ом | 60-150 Ом | 150-500 Ом |
застосування | Високоміцне скло зазвичай використовується для електростатичного захисту та виробництва сенсорних екранів | Звичайне стійке скло зазвичай використовується для рідкокристалічного дисплея типу TN та електронного захисту від перешкод (екранування від електромагнітних перешкод) | Скло з низьким опором зазвичай використовується в рідкокристалічних дисплеях STN і прозорих платах |
Функціональний тест і тест на надійність | |
Толерантність | ±0,2 мм |
Деформація | товщина<0,55 мм, деформація≤0,15% товщина>0,7 мм, викривлення≤0,15% |
ZT вертикальний | ≤1° |
Твердість | >7 год |
Випробування на стирання покриття | 0000#сталева вата з 1000gf,6000 циклів, 40 циклів/хв |
Антикорозійний тест (випробування сольовим спреєм) | Концентрація NaCL 5%: Температура: 35°C Час експерименту: 5 хв зміна опору≤10% |
Тест на вологостійкість | 60℃,90% відносної вологості,48 годин стійкість зміни≤10% |
Тест на кислотостійкість | Концентрація HCL: 6%, Температура: 35°C Час експерименту: 5 хв зміна опору≤10% |
Тест на лугостійкість | Концентрація NaOH: 10%, Температура: 60°C Час експерименту: 5 хв зміна опору≤10% |
Термостабільність | Температура: 300°C, час нагрівання: 30 хвилин, зміна опору≤300% |
Обробка
Шар Si02:
(1) Роль шару SiO2:
Основна мета полягає в тому, щоб запобігти дифузії іонів металу в содо-кальцієвій підкладці в шар ITO.Це впливає на провідність шару ITO.
(2) Товщина плівки шару SiO2:
Стандартна товщина плівки зазвичай становить 250 ± 50 Å
(3) Інші компоненти шару SiO2:
Зазвичай, щоб покращити світлопроникність скла ITO, певна частка SiN4 додається до SiO2.